對于真空鍍膜而言，我們可以簡單的理解為是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射及凝結的方法，在金屬，寧波真空鍍膜廠家、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等材料上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。真空鍍膜屬于干式鍍膜，在光學、電子學、理論儀器、機械和表面處理技術上有著***的應用。以真空鍍膜的離子鍍膜為例，寧波真空鍍膜廠家，它是在真空蒸鍍、濺射鍍膜的基礎上發展而來的，所以它具有真空蒸鍍、濺射鍍膜兩種鍍膜方式的優點，寧波真空鍍膜廠家，離子鍍膜是在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質(膜材)部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發物或其反應物沉積在基片表面。

濺射鍍膜和蒸發鍍膜是兩種不同的鍍膜方式，蒸發鍍膜成分均勻性不能很好的保證（控制），雖然真空鍍膜機和特定的因素是可以進行干預控制的，但是這個控制是非常有限的，因此對于非單組分涂料，蒸發鍍膜成分均勻性效果并不好。濺射鍍膜我們可以理解為電子（其他能量）轟擊目標而使用的，使得表面成分的自由基或離子形式濺射，并沉積在襯底表面的成膜過程中并形成薄膜。濺射鍍膜又能繼續細分其他類型，目前使用的是激光濺射、脈沖濺射居多。

目前濺射鍍膜技術能分為二級濺射，偏壓濺射，三級或四級濺射，射頻濺射，磁控濺射，對向靶濺射，反應濺射和離子束濺射這幾類。濺射鍍膜技術使用范圍***，常用在制備金屬、合金、半導體、氧化物、絕緣介質，以及化合物半導體、碳化物、氮化物等材料的鍍膜。從上個世紀七十年代發展興起，到現在逐漸成熟和創新突破，使其在更多的方面得到運用。濺射鍍膜的優點是比較明顯使用，但是其缺|陷也是比較明顯的，如所需的建設設備復雜且需要高壓裝置配合；鍍膜的成型率低和需要氣體輝光放電下進行等等。

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