二是因?yàn)槔錈釡囟忍荻犬a(chǎn)生的熱應(yīng)力與殘余應(yīng)力相互作用，使其重新分布而獲得殘余應(yīng)力下降的效果。（3）恒溫時(shí)效法恒溫時(shí)效即可消除機(jī)械加工產(chǎn)生的殘余應(yīng)力，又能消除熱處理引入的殘余應(yīng)力。LY12硬鋁合金在200℃高溫下恒溫時(shí)效時(shí)，殘余應(yīng)力釋放與時(shí)效時(shí)間關(guān)系表明，保溫24小時(shí)，可使殘余應(yīng)力下降50%左右。2、機(jī)械法機(jī)械法穩(wěn)定性處理，不銹鋼壓力傳感器哪個(gè)品牌好，多在測力傳感器電路補(bǔ)償與調(diào)整和防護(hù)密封后，基本形成產(chǎn)品時(shí)進(jìn)行。主要工藝有脈動(dòng)疲勞法、超載靜壓法和振動(dòng)時(shí)效法，不銹鋼壓力傳感器哪個(gè)品牌好。（1）脈動(dòng)疲勞法將測力傳感器安裝在低頻疲勞試驗(yàn)機(jī)上，施加上限為額定載荷或120%額定載荷，以每秒3～5次的頻率進(jìn)行5000～10000次的循環(huán)。可有效的釋放彈性元件、電阻應(yīng)變計(jì)、應(yīng)變粘結(jié)劑膠層的殘余應(yīng)力，提高零點(diǎn)和靈敏度穩(wěn)定性的效果極為明顯。（2）超載靜壓法理論上適用于各種量程，但在實(shí)際生產(chǎn)中以鋁合金小量程測力傳感器應(yīng)用較多。其工藝是：在**的標(biāo)準(zhǔn)砝碼加載裝置中或簡易的機(jī)械螺旋加載設(shè)備上，不銹鋼壓力傳感器哪個(gè)品牌好，對測力傳感器施加125%額定載荷，保持4～8小時(shí)，或施加110%額定載荷，保持24小時(shí)，兩種工藝都可以達(dá)到釋放殘余應(yīng)力，提高零點(diǎn)和靈敏度穩(wěn)定性的目的。由于超載靜壓工藝所用設(shè)備簡單，成本低，效果好。

    當(dāng)給橋路加一恒流激勵(lì)電源時(shí)，可以將壓力信號(hào)線性的轉(zhuǎn)換成毫伏級(jí)電壓信號(hào)，經(jīng)放大轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號(hào)，再由無線壓力傳感器的無線模塊發(fā)送到無線數(shù)據(jù)接收端。無線壓力傳感器進(jìn)行了電路設(shè)計(jì)、用電管理、通信協(xié)議的優(yōu)化，并實(shí)現(xiàn)了無線通訊“微功耗”設(shè)計(jì)；采用微發(fā)射功率和高靈敏度接收策略；具有電池電量實(shí)時(shí)在線監(jiān)測功能，低于設(shè)定值自動(dòng)報(bào)警，提醒用戶及時(shí)更換電池；具有數(shù)字顯示功能，便于現(xiàn)場觀察及設(shè)置，可以在現(xiàn)場設(shè)定采集間隔、數(shù)據(jù)發(fā)送間隔、報(bào)警上下限等參數(shù)；負(fù)責(zé)接收測控主機(jī)指令，完成油壓、套壓、回壓、干線壓力等壓力數(shù)據(jù)的測量和傳送；嚴(yán)格按照國家無線電管理**會(huì)對民用無線控制裝置的技術(shù)要求生產(chǎn)，使用不受限制的433MHZ公用頻道，不必申請**頻率；采用碼分多址調(diào)制方式，允許在同一區(qū)域多部設(shè)備傳輸數(shù)據(jù)而不會(huì)互相干擾。

    完成p-光刻注入。其中，在完成p-光刻注入的si襯底正面進(jìn)行n+光刻注入；在完成p-光刻注入的si襯底正面光刻n+隔離區(qū)圖形，注入p離子形成n+隔離區(qū)，去除n+隔離區(qū)上的光刻膠，完成n+光刻注入。其中，在完成n+光刻注入的si襯底正面進(jìn)行p+光刻注入，包括：在完成n+光刻注入的si襯底正面光刻p+低阻區(qū)圖形，注入b離子形成p+低阻區(qū)，再去除p+低阻區(qū)上的光刻膠，完成p+光刻注入。上述方案中，對注入摻雜后的si襯底進(jìn)行金屬布線，包括：對去除氧化層的si襯底進(jìn)行介質(zhì)層淀積，然后在介質(zhì)層上光刻接觸孔圖形并刻蝕接觸孔；在介質(zhì)層上金屬布線，蒸發(fā)淀積一層al，之后光刻金屬布線圖形，刻蝕al，去除光刻膠；對刻蝕al后的si襯底正面淀積鈍化層，然后光刻打線孔圖形并刻蝕出打線孔，去除光刻膠；用有機(jī)溶液對si襯底進(jìn)行泡洗并合金使金屬與低阻區(qū)形成歐姆接觸。上述方案中，對完成金屬布線后的si襯底進(jìn)行背面光刻刻蝕，得到感壓膜片，包括：對si襯底的背面光刻，依次法刻蝕背面sin、sio2，刻蝕掉背面保護(hù)層中間準(zhǔn)備刻蝕背腔的部分，留兩側(cè)背面保護(hù)層作為之后干法刻蝕的掩膜；以背面兩側(cè)的保護(hù)層作為掩膜，刻蝕si襯底的背腔，刻蝕后膜片圖形為方形或圓形。

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